Високоефективний електростатичний патрон з нітриду алюмінію для передових напівпровідникових застосувань
Оскільки напівпровідникові вузли зменшуються, а плазмові процеси посилюються, виробники обладнання та власники фабрик вимагають компонентів, які забезпечують надзвичайну точність, винятковий термоконтроль і тривалу надійність. Shaanxi Puwei Electronic Technology Co., Ltd. вирішує ці проблеми за допомогою нашого електростатичного патрона з нітриду алюмінію наступного покоління, розробленого для задоволення суворих вимог до силових пристроїв, виробництва світлодіодів, мікрохвильових радіочастотних схем та автомобільної електроніки.
Чому нітрид алюмінію? Ключові переваги обробки напівпровідників
Наш електростатичний патрон AlN розроблений, щоб досягти успіху у високоточних середовищах, вирішуючи критичні проблеми для виробників, які прагнуть покращити контроль процесу та знизити вартість володіння.
Інженерні властивості для максимальної продуктивності
- Чудова теплопровідність (170 Вт/м·К): забезпечує швидке рівномірне розсіювання тепла під час травлення та осадження, забезпечуючи постійну температуру пластини — це важливо для високопродуктивної обробки напівпровідникової керамічної підкладки .
- Висока електрична ізоляція/низька діелектрична проникність (8–9 МГц): забезпечує стабільну ізоляцію та мінімізує втрати сигналу в камерах з високою частотою, підтримуючи точне закріплення та надійну роботу.
- Низький коефіцієнт теплового розширення (відповідає до Si): точно імітує розширення кремнію, зменшуючи напругу пластини та вигин під час термоциклування — ключовий фактор для керамічних підкладок IGBT та вдосконаленої вузлової літографії.
- Термічна стабільність і ударостійкість: зберігає площинність і структурну цілісність за екстремальних температурних градієнтів, гарантуючи точність вирівнювання нанорозміру.
- Стійкість до корозії в плазмових середовищах: витримує агресивні хімікати фтору та хлору, подовжуючи термін служби частин камери та зменшуючи забруднення частинками.
- Хороша сумісність з металізацією: наша керамічна підкладка AlN підтримує надійну тонкоплівкову металізацію, забезпечуючи вбудовані схеми електродів і багатозонне нагрівання.
Технічні характеристики продукту: прецизійні підкладки AlN для критично важливих інструментів
Наші електростатичні патрони AlN виготовляються з суворими допусками з можливістю повного налаштування для інтеграції OEM. Незалежно від того, чи потрібен вам стандартний діаметр чи складна геометрія, Puwei допоможе.
- Матеріал: високочистий нітрид алюмінію (AlN) — клас керамічної підкладки AlN
- Функція: Електростатичний затиск, високовольтна ізоляція та ефективне розсіювання тепла
- Колір: сірий
- Тип: вдосконалена технічна кераміка для деталей напівпровідникового обладнання
- Щільність: 3,3 г/см³
- Індивідуалізація: Підтримується детальними кресленнями — ми вітаємо замовлення OEM, включаючи варіанти для підкладок з високою теплопровідністю AlN і конструкцій керамічних плат з AlN .
Щоб отримати додаткову інформацію про наш електростатичний патрон із нітриду алюмінію або супутні продукти, такі як керамічні диски з алюмінію, високотеплопровідні підкладки з алюмінію та потужні напівпровідникові керамічні підкладки , зв’яжіться з Shaanxi Puwei Electronic Technology Co., Ltd. сьогодні. Поділіться своїми вимогами, і наша команда експертів запропонує індивідуальні рішення для підвищення ефективності виробництва та прибутковості.
